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第33章（第5页）

“光刻机是核心设备，用于将电路图案转印到晶圆表面。euv光刻机（波长13.5nm）可实现7nm以下制程，需高速激光脉冲和精密光学系统；刻蚀设备通过化学或物理方法去除多余材料，形成精确器件结构，依赖等离子体控制技术；薄膜沉积装置包括cvd和物理气相沉积（pvd）设备，用于在晶圆表面形成导体、绝缘体或半导体薄膜。”

“离子注入机将离子加速注入硅片特定区域，精确控制电学性能。 ”

她突然脚步一停，抬眸便瞧见满脸写着“场外人”的林暮寒，从容笑道：“那位穿牛仔裤的女同学。”

林暮寒这人最擅长的不过是三心二意，身上的器官没一处不是分工明确。

她将视线挪去，问道：“怎么了老师？”

果然这世上没有一个负责任的老师会容忍开小差的同学。

“麻烦你来再讲一遍设备。”

这就是报复。

半秒，林暮寒应了声行啊，松开搭在南榆雪肩上的手，扭头扫了一眼。

“……”

面对着玻璃柜里新奇的设备，她有种说不上来的熟悉感。

那种感觉就好像自己真的用过。

话音刚落，周围的同学纷纷为她让出一条红毯。双手抱胸头靠在向江折身上安心睡觉的叶倾被这闹得忽然一惊，顿时从熟睡中清醒。秦帆抬眸看去，“困就再睡会。”叶倾摇头说不用。

回想了半秒，林暮寒双手背在身后，习以为常地走了几步，一字一句：“单晶炉、气相外延炉、分子束外延系统、光刻机、刻蚀设备、薄膜沉积装置、离子注入机。”