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第33章（第4页）

身后，南榆雪的脚步不由得僵硬，但又慢慢加快脚步，匆匆离去。

她没有忘了她，是她从前从未记得过她。

第25章 小痣

-28.

次日清晨，室外温度二十六至三十摄氏度不等，室内八个空调十六摄氏度。

林暮寒的头埋在南榆雪的颈窝，声音闷闷的，还带着些鼻音：“小孩，走慢点。”

南榆雪频率未改反增，毫不客气：“嫌快滚开。”

林暮寒手搭上她的肩膀，抬起头，哦了一声，委屈道：“姐错了。”

后者一言不发，林暮寒侧面看去也只瞧见一张脸显而易见的好处是显小。

“接下来我们看到的是世界上第一套主要的电子芯片制造用具及材料。”

博物馆内，导师走在前头，手摊向玻璃柜内的设备。

那是位干练的棕发女人，身上穿着得体的西装。她边走边道：“制作电子芯片的主要用具集中在晶圆加工和前端制造这两大核心环节——”

“晶圆加工设备包括单晶炉、气相外延炉及分子束外延系统。”

“单晶炉用于熔融半导体材料并拉制单晶硅锭，需精准控制温度、旋转速度和提拉速率。气相外延炉通过化学气相沉积（cvd）在单晶表面生长薄层晶体，实现功能化准备。分子束外延系统在特定晶向的衬底上逐层生长单晶薄膜，用于精密结构制造。”

她又走了几步，高跟鞋的哒哒声在寂静的室内被放大了数百倍。

“前端制造设备内含光刻机、刻蚀设备、薄膜沉积装置和离子注入机。”

“光刻机是核心设备，用于将电路图案转印到晶圆表面。euv光刻机（波长13.5nm）可实现7nm以下制程，需高速激光脉冲和精密光学系统；刻蚀设备通过化学或物理方法去除多余材料，形成精确器件结构，依赖等离子体控制技术；薄膜沉积装置包括cvd和物理气相沉积（pvd）设备，用于在晶圆表面形成导体、绝缘体或半导体薄膜。”